為了幫助光學(xué)平臺用戶更好地識別產(chǎn)品質(zhì)量，以下POUSTO將簡要說明購買光學(xué)平臺時需要注意的事項，以及各項指標的含義和檢測方法。

外觀

光學(xué)平臺的外觀應(yīng)當(dāng)美觀，所有部件不得存在影響安全的鋒利角和邊緣，更為重要的是，要檢查孔口的倒角是否均勻一致即螺孔旋入后應(yīng)與光學(xué)平臺的臺面垂直，且四周及倒角的平直度也應(yīng)保持一致，如果光學(xué)平臺是人工打磨而非經(jīng)過機械加工，孔口的倒角大小可能會有差異，目測上可發(fā)現(xiàn)光學(xué)平臺周圍的倒角部分有彎曲現(xiàn)象。

頻率

固有頻率不超過2赫茲，也稱為自然頻率或自振頻率，只有當(dāng)環(huán)境擾動力的頻率（f）與光學(xué)平臺的固有頻率（fo）之比滿足 f/fo > √2 時，系統(tǒng)才能有效隔振，因此，光學(xué)平臺的固有頻率越低，隔振效果越明顯。通常，這項指標的檢測會使用振動頻譜分析儀和便攜式振動分析儀進行多點測量，如果供應(yīng)商無法提供相關(guān)儀器，還可以通過以下方法進行粗略測量：用手用力按下或側(cè)推光學(xué)平臺，然后迅速松手，讓光學(xué)平臺進行較大幅度的上下振動或左右、前后擺動，每秒往復(fù)一次的振動頻率為1Hz，往復(fù)兩次則為2Hz，如此類推，這種方法能大致測量光學(xué)平臺的固有頻率。

平面度

要求不得超過每平方米0.05毫米，該指標越小，代表臺面的平整度越好，從而更容易調(diào)整光路，通常，出廠時要求平面度小于0.05㎜/㎡。常見的檢測方法有光電自準直儀法、光學(xué)平面度檢測儀、水平儀檢測法和激光平面度檢測儀等，在實驗室中，光學(xué)平臺的平面度通常使用光電自準直儀和光學(xué)平直度檢測儀進行檢測，并經(jīng)過計算得出結(jié)果，這些儀器是生產(chǎn)廠家必須配備的設(shè)備。

粗糙度

表面密度紋理和粗糙度（Ra≤0.8μm），該指標旨在確保光學(xué)平臺具有平滑且無反射的工作表面，良好的表面粗糙度可以有效保護實驗設(shè)備，通常產(chǎn)品出廠時要求表面粗糙度達到Ra ≤ 0.8μm。粗糙度的檢測可以通過目測對比樣板或使用粗糙度儀來進行，如果在現(xiàn)場進行檢測，可以使用便于攜帶的粗糙度儀，該儀器能直接讀取數(shù)據(jù)且精度較高。

定位

重復(fù)定位精度為±0.10毫米，該指標的目的是確保光學(xué)平臺在動態(tài)條件下保持水平，以便用戶進行高速光路操作。檢測方法是將一個精度為0.02㎜的百分表固定在穩(wěn)定的物體上，表頭與光學(xué)平臺的臺面接觸后，需要反復(fù)對臺面進行加載或卸載，待達到穩(wěn)定后，如果讀數(shù)在正負0.10㎜的范圍內(nèi)則視為合格。

振幅

光學(xué)平臺臺面的振幅應(yīng)不超過2微米（So≤2μm），在正常使用情況下，為了保證儀器的使用精度，光學(xué)平臺應(yīng)盡量保持較低的振幅。同時，可以通過比較光學(xué)平臺與地面的振幅指標來評估系統(tǒng)的隔振性能，如果光學(xué)平臺的振幅低于地面的振幅，說明光學(xué)平臺有效地隔絕了振動；否則，說明隔振效果欠佳或存在振動放大現(xiàn)象，檢測振幅指標的方法與檢測固有頻率的方法類似。

優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機械設(shè)備進行加工，還必須配備先進的檢測技術(shù)和儀器，以確保其準確性，只有擁有高品質(zhì)的光學(xué)平臺，才能確保科學(xué)實驗和研究的高精度進行。

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